Vörulýsing: Leysihitun fyrir hálfleiðaraþráðaglæðingu

Glæðing á skífum er mikilvægt ferli í framleiðslu hálfleiðara og felur í sér virkjun efnis, endurreisn grindar og myndun ultra-grunnra tenginga (USJ). Hefðbundin ofnglæðing og hraðhitavinnsla (RTP) þjást af miklum varmaútgjöldum, illa stýrðri dreifingu efnis og ófullnægjandi einsleitni, sem gerir þær ófullnægjandi fyrir háþróaða tæknihnúta við 7 nm, 5 nm og lengra - sérstaklega fyrir Gate-All-Around (GAA) arkitektúr og 3D NAND flassminni. Leysigeislabundin glæðing á skífum, með skammvinnri háorkugeislun, míkrónóskala nákvæmni í rúmfræði og lágmarks varmaútbreiðslu, hefur komið fram sem næstu kynslóð kjarnaferlis til að uppfylla þessar krefjandi framleiðslukröfur.

Kjarnaregla um leysihitun

Leysihöfuð Wave Optics er með sérhönnuðu ljósfræðilegu hönnun sem skilar orkuríkum, hitaupprunalega einsleitum leysigeislum fyrir nákvæma geislun á yfirborði skífna. Græni leysirinn býður upp á framúrskarandi frásogssamræmi við kísilefni (þar á meðal SiC), sem gerir kleift að framkvæma mjög skilvirka hitameðferð án þess að skemma skífuna. Þetta auðveldar endurkristöllun á jónígrædda skemmda laginu og skilvirka virkjun efnisins. Í kjölfarið gerir mikil varmaleiðni undirlagsins kleift að kæla mjög hratt, sem frýs grindarbygginguna og bælir dreifingu efnisins. Þetta ferli framleiðir með góðum árangri mjög grunn samskeyti með bæði mikilli virkjunarhagkvæmni og bröttum (skyndilegum) samskeytissniði.

Leysihitunarglæðing er mikilvæg til að bæta afköst skífuvinnslu

1. Geislajafnvægi: Orkujafnvægi flatgeislapunktsins er meira en 95% (dæmigert), sem útilokar staðbundna ofbræðslu eða vanglæðingu.
2. Orkustöðugleiki: Stöðugar sveiflur í orkuframleiðslu eru undir 2%, sem tryggir framúrskarandi samræmi milli skífu og lotu eftir lotu.
3. Nákvæmni yfirborðsmyndar: Ljósfræðilegir íhlutir eru með PV/RMS gildi á nanómetrakvarða með vel stýrðri bylgjufrontsröskun, sem kemur í veg fyrir skemmdir á heitum blettum.
4. Fókusdýpt og geislamótun: Sérsniðin fókusdýpt ásamt geislasamþættingarsamræmingu styður við skönnun á stórum skífum í öllu sviði.
5. Bylgjulengdarsamsvörun: Bjartsýni fyrir bylgjulengdir með mikla frásogsorku úr kísil og þriðju kynslóð hálfleiðara (t.d. SiC, GaN) til að hámarka orkunýtingu.

Þrír lykilkostir umfram hefðbundna glæðingu

1. Framúrskarandi bæling á dreifingu efnis - Varmaáhrif eru takmörkuð við nanósekúndur til millisekúnda sviðið með nærri núll dreifingu efnis, sem er óframkvæmanlegt með ofnglæðingu eða RTP.

2. Lágt hitauppstreymi og lágmarks skemmdir á tækjum - Aðeins yfirborð skífunnar verður fyrir tímabundnum háum hita, sem leiðir til engri hitauppstreymis aflögunar á undirlaginu eða uppbyggingu tækjanna og engrar niðurbrots á viðmótinu.

3. Nákvæm sértæk svæðisglóðun - Stillanlegir geislablettir á míkrómetrakvarða styðja staðbundna glæðingu fyrir 3D-samþættingu og ólíkbyggð samþætt tæki.

Umsóknarsviðsmyndir

Notkunarsvið eru meðal annars virkjun uppsprettu/rennslis, viðgerðir rása og ómsk snertiglæðing fyrir háþróaða rökfræði (GAA/CFET), DRAM/3D NAND, SiC/GaN aflgjafatæki, SOI og ör-/nanótæki. Leysiglæðing skilar samtímis bættum afköstum og afköstum tækja.

Leysigeislaglæðing færir vinnslu á skífum frá alþjóðlegri (teppi)glæðingu yfir í nákvæma staðbundna glæðingu. Öflug ljóstækni hennar styður áframhaldandi stækkun og byltingar í afköstum háþróaðra hálfleiðara.

Upplýsingar um vöru